再谈中芯国际SMIC
2020-06-02 20:54:02
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俊宏MS-头条号 2020/6/214:12

来自广东地方媒体的报道,中芯国际深圳工厂在近日成功的接收了一台光刻机,该光刻机通过出口加工区场站两道闸口进入厂区。根据此前中芯国际官方的透露,目前中芯国际深圳工厂正在全力进行生产,这台新到货的光刻机将用于复产后的生产线扩容。

然而,这台机器应该是用于生产14nm制程芯片的,并不是此前大家都希望看到的7nm DUV甚至是7nm EUV工艺。

早在2018年,中芯国际就已向ASML公司下了10台7nm光刻机的订单,定金已经支付,但到目前为止,还没有见到7nm光刻机的影子。美国“科学无国界”的虚言再次刷新了大家的认知。

反观台积电、英特尔、三星,早已用上7nm光刻技术,5nm芯片2020年也会得到量产,预计2024年3nm甚至2nm最新技术也会应用于最新通讯设备。而我国最大的光刻设备企业目前停留在90nm技术,技术落后数十年。

造成这种现象的原因不言而喻,霸权条款和恶意垄断的结果。如果不采取必要的应对措施,现状只会加剧。

我们再回顾下中芯国际的现状:

中芯国际是国内唯一能够提供14纳米制程的晶圆代工企业,目前已有多款产品芯片代工,14nm芯片火热量产。

5月15日,中芯国际今日在港交所公告,中芯控股与国家集成电路基金等多方订立新合资合同及新增资扩股协议,国家集成电路基金II及上海集成电路基金II(作为中芯南方的新股东)同意分别注资15亿美元及7.5亿美元予中芯南方注册资本,中芯南方注册资本将由35亿美元增加至65亿美元。中芯南方已成立及建立庞大产能,并专注14纳米及以下工艺和制造技术。中芯南方已达致每月6,000片14纳米晶圆的产能,目标是达致每月35,000片14纳米及以下晶圆的产能。

2月举行的2019年四季度财报会议上,中芯国际联席CEO梁孟松首次公开了中芯国际N+1、N+2代FinFET工艺情况。相比于14nm,N+1工艺性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%、SoC面积缩小55%,这意味着除了性能,N+1其他指标均与7nm工艺相似,之后的N+2工艺性能和成本都更高一些。只要中芯国际的N+1、N+2工艺能做出产品来,就能代替台积电为海思代工7nm芯片。

曾经网络达人有总结“无论日本如何对中国差,中国人都会争相购买日本的东西;无论日本如何对韩国好,韩国人都不会购买日本的东西”。

听起来很气愤,绝对是真实的状况。

细细品味,我们该怎么做,都应该有所感悟吧。

创新源于市场需求和竞争,中国永远都是最庞大的市场

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